微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流，江蘇超高速灰度光刻微納光刻、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，江蘇超高速灰度光刻微納光刻，傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產生場曲。在商業生產中，為了消除場曲這種光學像差，只能在后續光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復雜度和成本，江蘇超高速灰度光刻微納光刻。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。Nanoscribe*分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的應用。江蘇超高速灰度光刻微納光刻

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統非常適合DOE的制作。該系統的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統可以實現一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續的拓撲。進口灰度光刻系統Nanoscribe*分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。

來自不來梅大學微型傳感器、致動器和系統(IMSAS)研究所的科學家們發明了一種全新的微流道混合方式，使用Nanoscribe公司的3D打印系統，利用雙光子聚合原理（2PP）結合光刻技術，將自由形式3D微流控混合元件集成到預制的晶圓級二維微流道中。該微型混合器可以處理高達100微升/分鐘的高流速樣品，適用于藥物和納米顆粒制造，快速化學反應、生物學測量和分析藥物等各種不同應用。事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應用在微納制造領域的，其先驅者是東京大阪大學的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finer features for functional microdevices：Micromachines can be created with higher resolution using two-photon absorption.》但是，這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作（畢竟科學家不是藝術家，不是做的好看就行了）。

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟，其高精度、高度可設計性和維度可控性已經在平行技術中排名在前。與此同時，如何更有效地將微納結構功能化，也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現階段，對于3D飛秒激光打印技術而言，具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現微納結構的功能化和芯片化，并使這些結構能夠更好地集成器件，從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產生場曲。在商業生產中，為了消除場曲這種光學像差，只能在后續光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。雙光子灰度光刻技術將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統Quantum X產品系列的第二臺設備，可實現在25 cm面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統，非常適合標準6英寸晶圓片工業批量加工制造。關于雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ）的問題，咨詢請致電Nanoscribe*分公司-納糯三維。進口灰度光刻系統

雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe*分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。江蘇超高速灰度光刻微納光刻

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術。這種具有創新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業生產上的加工模具。德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發布了全新工業級雙光子灰度光刻微納打印系統QuantumX，并榮獲創新獎。該系統是世界上No.1基于雙光子灰度光刻技術（2GL?）的精密加工微納米打印系統，可應用于折射和衍射微光學。該系統的面世表示著Nanoscribe已進軍現代微加工工業領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業需求。江蘇超高速灰度光刻微納光刻