作為基于雙光子聚合技術（2PP）的微細加工領域市場帶領者，Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體�！拔覀優槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪，憑借我們的技術支持，我們的客戶實現了一個又一個突破性創新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司，與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯合創始人兼首席執行官MartinHermatschweiler表示�；�2PP微納加工技術方面的專業知識，Nanoscribe為前列科學研究和工業創新提供強大的技術支持，并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫學工程和集成光子學技術等不同領域的發展。不需要集中的、固定的制造車間，具有分布式生產的特點。上海微納米3D打印微納光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學制作�？梢源钆洳煌幕�，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械，傳感器和執行器是至關重要的�；陔p光子聚合原理的激光直寫技術，可適用于您的任何新穎創意的快速原型制作；也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實現不同參數的創新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。歡迎咨詢。上海微納米3D打印微納光刻想要了解3D打印的特點和作用，請咨詢Nanoscribe在*的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。
Nanoscribe超高速3D打印技術的優勢不僅在于其快速和精確，還在于其靈活性和可定制性。用戶可以根據自己的需求設計和打印各種形狀和結構的物體，實現個性化定制。這為創新和研發提供了更多可能性，推動了科技的進步。除了應用領域的靈活性，Nanoscribe超高速3D打印技術還具有環保和可持續發展的特點。相比傳統的制造工藝，該技術減少了材料的浪費和能源的消耗，降低了對環境的影響。這符合當今社會對可持續發展的追求，為企業贏得了更多的市場競爭力。Nanoscribe超高速3D打印技術是一項未來的創新技術。其快速、精確、靈活和環保的特點使其在各行各業都有著廣泛的應用前景。我們相信，隨著技術的不斷進步和應用的不斷拓展，Nanoscribe超高速3D打印技術將為我們帶來更多驚喜和改變。
俄亥俄州代頓的美國空軍技術學院的科研人員開發了新一代的基于光纖的傳感器，其部件可實現動態旋轉。他們使用**支撐結構一步打印了智能化的3D微鉸鏈和可活動部件。這種巧妙的設計和3D打印策略使優化的傳感器（例如具有更高靈敏度的Fabry-Pérot傳感器）和新型傳感器（例如光纖上的3D打印轉子）能應用于流量測量。
Fabry-Pérot腔可能是很受歡迎的基于光纖的微型傳感器。傳感器的響應基于在腔體內部分反射表面之間循環的單色光的干涉。腔體光程的**小變化都會導致傳感器輸出的干涉發生變化。靈敏度隨著腔內界面的反射率而增加。腔體中捕獲的光越多，光譜響應就越清晰，即體現在更高的品質因子。 高分辨率的3D打印技術可以生產出比傳統制造工藝更小、更精確的零件。
為了進一步提升技術先進性，科研人員又在新材料研發的過程中發現了巨大的潛力。一方面，利用SCRIBE新技術的情況下，高折射率的光刻膠可進一步拓展對打印結構的光學性能的調節度。另一方面，低自發熒光的可打印材料非常適用于生物成像領域。Nanoscribe公司的IP系列光刻膠，例如具有高折射率的IP-n162和具有生物相容性和低自發熒光的IP-Visio已經為接下來的研究提供了進一步的可能。為了證明SCRIBE新技術的巨大潛力，科研人員打印了眾多令人矚目的光學組件，例如已經提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡（如圖示）。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中，成像中的熒光強度和折射率高度相關，同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化把3D打印做大很難，做小同樣也不容易，這兩個方向都蘊含著大量的創新機會。上海科研3D打印激光直寫
高精度和高分辨率：微納3D打印技術可以實現微米級甚至納米級的打印精度，能夠制造出非常精細的結構和零件。上海微納米3D打印微納光刻
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統，用于快速原型制作和晶圓級批量生產，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業激光直寫系統，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要，這對于科研和工業生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備，可實現在25cm面積內打印任何結構，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應用的快速原型制作上海微納米3D打印微納光刻
