GaN材料硬度高且易產生解理裂紋。中清航科創新水導激光切割（WaterJetGuidedLaser），利用高壓水柱約束激光束，冷卻與沖刷同步完成。崩邊尺寸<8μm，熱影響區只2μm，滿足射頻器件高Q值要求。設備振動導致切割線寬波動。中清航科應用主動磁懸浮阻尼系統，通過6軸加速度傳感器實時生成反向抵消力，將振幅壓制在50nm以內。尤其適用于超窄切割道（<20μm）的高精度需求。光學器件晶圓需避免邊緣微裂紋影響透光率。中清航科紫外皮秒激光系統（波長355nm）配合光束整形模塊，實現吸收率>90%的冷加工，切割面粗糙度Ra<0.05μm，突破攝像頭模組良率瓶頸。選擇中清航科切割代工服務，復雜圖形晶圓損耗降低27%。江蘇晶圓切割寬度

中清航科創新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯動補償系統，通過實時監測晶圓形變動態調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3DNAND多層堆疊結構加工。麗水sic晶圓切割廠中清航科真空吸附晶圓托盤，解決超薄晶圓切割變形難題。

為幫助客戶應對半導體行業的技術人才短缺問題，中清航科推出“設備+培訓”打包服務。購買設備的客戶可獲得技術培訓名額，培訓內容涵蓋設備操作、工藝調試、故障排除等，培訓結束后頒發認證證書。同時提供在線技術支持平臺，隨時解答客戶在生產中遇到的技術問題。隨著半導體器件向微型化、集成化發展，晶圓切割的精度要求將持續提升。中清航科已啟動亞微米級切割技術的產業化項目，計劃通過引入更高精度的運動控制系統與更短波長的激光源，實現500nm以內的切割精度，為量子芯片、生物傳感器等前沿領域的發展提供關鍵制造設備支持。

對于高價值的晶圓產品，切割過程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設備內置二維碼追溯系統，每片晶圓進入設備后都會生成單獨的二維碼標識，全程記錄切割時間、操作人員、工藝參數、檢測結果等信息，可通過掃碼快速查詢全流程數據，為質量追溯與問題分析提供完整依據。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統工藝限制，開發出激光倒角技術。可在切割的同時完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在5-50μm范圍內，有效減少邊緣應力集中，提高晶圓的機械強度。該技術特別適用于需要多次搬運與清洗的晶圓加工流程。中清航科切割工藝白皮書下載量超10萬次，成行業參考標準。

中清航科為晶圓切割設備提供全生命周期的服務支持，從設備安裝調試、操作人員培訓、工藝優化指導到設備升級改造，形成完整的服務鏈條。建立客戶服務檔案，定期進行設備巡檢與性能評估，根據客戶的生產需求變化提供定制化的升級方案，確保設備始終保持先進的技術水平。隨著半導體技術向更多新興領域滲透，晶圓切割的應用場景不斷拓展。中清航科積極布局新興市場，開發適用于可穿戴設備芯片、柔性電子、生物芯片等領域的切割設備。例如，針對柔性晶圓的切割，采用低溫冷凍切割技術，解決柔性材料切割時的拉伸變形問題，為新興半導體應用提供可靠的制造保障。復合材料晶圓切割選中清航科多工藝集成設備，兼容激光與刀片。嘉興砷化鎵晶圓切割

超窄街切割方案中清航科實現30μm道寬，芯片數量提升18%。江蘇晶圓切割寬度

在半導體設備國產化替代的浪潮中，中清航科始終堅持自主創新，中心技術100%自主可控。其晶圓切割設備的關鍵部件如激光發生器、精密導軌、控制系統等均實現國產化量產，不僅擺脫對進口部件的依賴，還將設備交付周期縮短至8周以內，較進口設備縮短50%，為客戶搶占市場先機提供有力支持。展望未來，隨著3nm及更先進制程的突破，晶圓切割將面臨更小尺寸、更高精度的挑戰。中清航科已啟動下一代原子級精度切割技術的研發，計劃通過量子點標記與納米操控技術，實現10nm以下的切割精度，同時布局晶圓-封裝一體化工藝，為半導體產業的持續發展提供前瞻性的技術解決方案，與全球客戶共同邁向更微觀的制造領域。江蘇晶圓切割寬度