高技術(shù)發(fā)展階段（2000年至今）伴隨全球光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，產(chǎn)品向高性能化發(fā)展，光學(xué)功能膜包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜 [1]。以聚酯切片為原料制備光學(xué)基膜，需通過(guò)雙向拉伸等工藝達(dá)到高透光率、低霧度等性能要求 [1]。加工過(guò)程涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學(xué)、機(jī)械設(shè)備和計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制等領(lǐng)域的技術(shù)問(wèn)題 [2]。截至2023年，全球光學(xué)膜市場(chǎng)呈現(xiàn)高度壟斷特征：基膜供應(yīng)：日本東麗、三菱樹(shù)脂、東洋紡控制光學(xué)級(jí)PET薄膜市場(chǎng) [1]深加工：美國(guó)3M、韓國(guó)SKC主導(dǎo)功能膜生產(chǎn) [1]例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小；如東國(guó)內(nèi)光學(xué)膜操作

光學(xué)功能膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和光電子器件的**組件，其通過(guò)薄層介質(zhì)實(shí)現(xiàn)光束調(diào)控 [1]。主要類型包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜，其中偏振片作為液晶顯示器中**昂貴的化學(xué)材料之一 [2]。該類產(chǎn)品采用聚酯切片為基材，需滿足高透光率、低霧度等性能要求 [1]，生產(chǎn)涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學(xué)、機(jī)械設(shè)備和計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制等復(fù)合技術(shù)領(lǐng)域 [2]。自20世紀(jì)30年代應(yīng)用以來(lái)，該技術(shù)歷經(jīng)真空鍍膜設(shè)備革新與光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，逐步形成由日本東麗、三菱樹(shù)脂、東洋紡，韓國(guó)SKC，美國(guó)3M等公司主導(dǎo)的高度壟斷市場(chǎng)格局 [1]。連云港國(guó)內(nèi)光學(xué)膜批量定制光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代。現(xiàn)代，光學(xué)薄膜已用于光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域，制造各種光學(xué)儀器。

在太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用硅材料是一種半導(dǎo)體材料，太陽(yáng)能電池發(fā)電原理主要就是利用這種半導(dǎo)體的光電效應(yīng)。硅折射率很大，照射到硅表面的光不能充分被吸收，而是很大一部分被反射掉，為了比較大限度地減少反射損失，可采用在電池上鍍一層或多層折射率和厚度與電池匹配的減反射膜來(lái)提高電池的轉(zhuǎn)化效率過(guò)鍍減反射膜膜可增加光的透過(guò)率，從而提高電池的效率，多孔二氧化硅減反射膜不僅使電池的轉(zhuǎn)化效率提高了5% ～6%，而且還可以提高基體的抗裂強(qiáng)度；氮化硅減反射膜使電池的轉(zhuǎn)化效率提高到16．7%，薄膜致密性好且能夠鈍化硅片表面的缺陷；二氧化鈦和氧化鋯減反射膜能提高玻璃基體的抗堿性能和防水防潮性能。

薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量*約0.1eV。IAD沉積導(dǎo)致電離化蒸汽的直接沉積并且給正在生長(zhǎng)的膜增加活化能，通常為50eV量級(jí)。離子源將束流從離子***指向基底表面和正在生長(zhǎng)的薄膜來(lái)改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低，則薄膜會(huì)含有微孔。當(dāng)薄膜暴露于潮濕的空氣時(shí)，這些微孔逐漸被水汽所填充。 [3金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。

?反射膜?是一種光學(xué)材料，主要用于液晶顯示器（LCD）背光模組中，其作用是將透過(guò)導(dǎo)光板漏出的光線反射回去，減少光損失，增加背光亮度。反射膜的反射率通常要求在96%以上，通過(guò)涂布高反射率涂層或鏡面鍍銀后，反射率可達(dá)到97%以上，甚至100%?。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來(lái)的金屬電介質(zhì)反射膜。一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁，在可見(jiàn)光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。棱鏡型偏振膜利用布儒斯特角入射時(shí)界面的偏振效應(yīng)（見(jiàn)光在分界面上的折射和反射）。通州區(qū)智能光學(xué)膜安裝

特別在紫外區(qū)，一般電介質(zhì)材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。如東國(guó)內(nèi)光學(xué)膜操作

在許多復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)里，反射光的抑制是十分重要的功課。因此一組鏡片之間，會(huì)利用不同的鍍膜厚度來(lái)消去不同頻率的反射光。所以越高級(jí)的光學(xué)系統(tǒng)，發(fā)現(xiàn)反射光的顏色也會(huì)越多。常見(jiàn)的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種：1、氟化鎂材料特點(diǎn)：無(wú)色四方晶系粉末，純度高，用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過(guò)率，不出崩點(diǎn)。2、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。如東國(guó)內(nèi)光學(xué)膜操作

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