廣東華升納米科技股份有限公司2025-11-22

金屬表面處理真空鍍膜等離子體無法點(diǎn)燃，常見原因有五：①真空度高于設(shè)定閾值（如＞3 Pa），電子自由程過短，無法雪崩電離；②射頻或直流電源輸出功率不足、匹配器電容錯(cuò)位，反射功率過大，能量耦合失敗；③反應(yīng)氣體流量過低或MFC零點(diǎn)漂移，腔內(nèi)缺乏可電離粒子；④電極絕緣子表面被導(dǎo)電沉積物覆蓋，高壓被旁路；⑤冷卻水流量不足，機(jī)臺(tái)過熱保護(hù)禁止點(diǎn)火。處理流程：先確認(rèn)本底真空≤1 Pa并檢漏；逐步提升功率至額定值30 %，重新調(diào)諧匹配器使反射＜3 W；校準(zhǔn)MFC，保證工藝氣體流量在配方范圍；用無水酒精擦拭絕緣子，必要時(shí)更換；檢查水壓開關(guān)復(fù)位。經(jīng)此金屬表面處理排查，輝光即可穩(wěn)定點(diǎn)燃，薄膜沉積速率恢復(fù)設(shè)計(jì)值，保障批量金屬表面處理真空鍍膜一致性，降低金屬表面處理停機(jī)時(shí)間。

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