半導(dǎo)體制造中，刻蝕工藝依賴鹵素氣體的強(qiáng)腐蝕性實(shí)現(xiàn)硅片圖形化，不同鹵素氣體適配不同刻蝕需求。氟基混合氣（如四氟化碳 - 氬氣）可實(shí)現(xiàn)硅的各向同性刻蝕，用于淺槽隔離結(jié)構(gòu)加工；氯基混合氣（如氯氣 - 氦氣）適用于金屬布線刻蝕，刻蝕速率可達(dá) 500nm/min；溴化氫混合氣則在化合物半導(dǎo)體刻蝕中展現(xiàn)優(yōu)勢(shì)，能準(zhǔn)確控制刻蝕深度。上海彌正的電子級(jí)鹵素刻蝕氣純度≥99.999%，金屬雜質(zhì)≤0.01ppb，某晶圓廠使用其氟基混合氣后，刻蝕圖形線寬偏差從 ±0.1μm 縮小至 ±0.03μm，良率提升 12%。氙氣在高壓下產(chǎn)生強(qiáng)紫外線，用于光刻技術(shù)，支撐半導(dǎo)體芯片制造。北京溴甲烷稀有氣體/鹵素氣體芯片制造

氬氣是大氣中含量比較高的稀有氣體（約 0.934%），呈無(wú)色無(wú)味單原子狀態(tài)，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，幾乎不與任何物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)。其重心價(jià)值在于作為保護(hù)氣，廣泛應(yīng)用于金屬焊接、冶煉及電子制造：在電弧焊接中，氬氣可隔絕空氣防止金屬氧化，使焊縫致密無(wú)飛濺，焊接接頭強(qiáng)度提升 20% 以上；在特種金屬冶煉中，鈦、鋯等活性金屬的提純需氬氣保護(hù)，避免氧化損耗；在電子行業(yè)，氬氣等離子體可用于芯片刻蝕與濺射鍍膜。上海彌正采用低溫精餾與精密吸附工藝，生產(chǎn)的工業(yè)級(jí)氬氣純度≥99.99%，電子級(jí)純度達(dá) 99.9999%，某汽車零部件企業(yè)使用其氬弧焊保護(hù)氣后，焊接廢品率從 3.5% 降至 0.8%，生產(chǎn)效率明顯提升。氯甲烷稀有氣體/鹵素氣體光纖生產(chǎn)氦氣用于聲學(xué)測(cè)試，作為傳聲介質(zhì)可減少干擾，提升測(cè)試精度。

量子計(jì)算的重心難題是維持量子比特的相干性，而液氦（4K 溫環(huán)境）是實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)的關(guān)鍵。上海彌正的 6N9 級(jí)（99.99997%）超純氦氣，采用四階耦合提純工藝，成功將氖氣等雜質(zhì)脫除至 0.1ppb 以下，為超導(dǎo)量子芯片提供穩(wěn)定環(huán)境。本源量子 “悟空” 芯片配套其氦循環(huán)系統(tǒng)后，量子比特相干時(shí)間突破 150μs，較室溫環(huán)境提升百萬(wàn)倍，同時(shí)制冷功耗降低 30%。該產(chǎn)品還可用于稀土磁材燒結(jié)，在釹鐵硼 1200℃燒結(jié)過(guò)程中，氦氣氛圍能將氧含量控制在 0.1ppm 以內(nèi)，使磁能積從 50MGOe 提升至 55MGOe 以上。

氦氣是自然界沸點(diǎn)比較低的氣體（-268.9℃），其獨(dú)特的**溫特性使其成為超導(dǎo)技術(shù)與航天領(lǐng)域的不可或缺的介質(zhì)。在超導(dǎo)磁體中，液氦能將磁體冷卻至接近***零度，使其處于超導(dǎo)狀態(tài)，電阻趨近于零，從而產(chǎn)生極強(qiáng)的磁場(chǎng)，這一特性廣泛應(yīng)用于醫(yī)用核磁共振（MRI）設(shè)備、粒子加速器與核聚變實(shí)驗(yàn)裝置。某醫(yī)療設(shè)備廠商生產(chǎn)的 3.0T MRI，需持續(xù)注入液氦維持超導(dǎo)磁體溫度，確保磁場(chǎng)強(qiáng)度穩(wěn)定，成像分辨率達(dá) 0.1mm，為疾病診斷提供精細(xì)支持。在航天領(lǐng)域，氦氣用于火箭推進(jìn)系統(tǒng)的增壓與 purge 清洗，因其化學(xué)惰性強(qiáng)，不會(huì)與燃料發(fā)生反應(yīng)，可有效防止管路腐蝕與風(fēng)險(xiǎn)；同時(shí)，氦氣填充于衛(wèi)星真空隔熱層，能***降低太空中的熱傳導(dǎo)，保護(hù)衛(wèi)星內(nèi)部?jī)x器在極端溫差（-150℃至 120℃）下正常工作。此外，氦氣還用于深海潛水呼吸混合氣，通過(guò)稀釋氮?dú)鉂舛龋档蜐撍畣T在高壓環(huán)境下的氮?dú)饴樽盹L(fēng)險(xiǎn)，保障深海作業(yè)安全。氟氣與鈾反應(yīng)生成六氟化，是核工業(yè)中鈾濃縮的關(guān)鍵原料，支撐核能發(fā)展。

上海彌正建立 “原料 - 過(guò)程 - 成品” 全鏈條質(zhì)量檢測(cè)體系，配備氣相色譜 - 質(zhì)譜聯(lián)用儀（GC-MS）、露點(diǎn)儀、激光顆粒計(jì)數(shù)器等設(shè)備。原料檢測(cè)聚焦純度與雜質(zhì)含量，如氦氣原料純度需≥99.9%；過(guò)程檢測(cè)實(shí)時(shí)監(jiān)控提純與配氣參數(shù)，確保工藝穩(wěn)定；成品檢測(cè)覆蓋純度、雜質(zhì)、均勻性等指標(biāo)，如氙氣純度用 GC-MS 檢測(cè)，水分用法（-80℃）檢測(cè)，顆粒用激光計(jì)數(shù)器檢測(cè)。檢測(cè)數(shù)據(jù)可溯源至國(guó)家基準(zhǔn)物質(zhì)，某計(jì)量院使用其標(biāo)準(zhǔn)氣后，校準(zhǔn)精度提升40%。歡迎來(lái)電 。氡氣是天然放射性氣體，需做好室內(nèi)通風(fēng)防護(hù)，避免長(zhǎng)期接觸危害健康。氯甲烷稀有氣體/鹵素氣體光纖生產(chǎn)

氖氣用于等離子體顯示器，像素發(fā)光均勻，畫面清晰度與色彩還原度高。北京溴甲烷稀有氣體/鹵素氣體芯片制造

半導(dǎo)體先進(jìn)制程對(duì)氣體純度與性能的要求，稀有氣體憑借獨(dú)特的物理特性成為重心材料。氬氣作為刻蝕與濺射的關(guān)鍵氣體，其等離子體可實(shí)現(xiàn)的薄膜沉積，上海彌正電子級(jí)氬氣雜質(zhì)含量≤0.1ppb，助力 14nm 制程芯片濺射鍍膜均勻性提升 30%；氦氣因?qū)嵝詮?qiáng)、化學(xué)惰性，用于晶圓冷卻與載氣，其 99.9999% 純度產(chǎn)品可使氣相色譜分析誤差≤0.3%；氙氣更是 EUV 光刻的重心，其等離子體產(chǎn)生的 13.5nm 光實(shí)現(xiàn) 5nm 以下制程突破。上海彌正建立半導(dǎo)體氣體專項(xiàng)產(chǎn)線，所有產(chǎn)品均符合 SEMI C12 標(biāo)準(zhǔn)，某頭部晶圓廠應(yīng)用后，芯片良率從 82% 提升至 95%，刻蝕缺陷密度降低 60%。北京溴甲烷稀有氣體/鹵素氣體芯片制造

上海彌正氣體有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中，一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取，不斷制造創(chuàng)新的市場(chǎng)高度，多年以來(lái)致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)，在上海市等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的商業(yè)口碑，成績(jī)讓我們喜悅，但不會(huì)讓我們止步，殘酷的市場(chǎng)磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志，和諧溫馨的工作環(huán)境，富有營(yíng)養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開(kāi)拓創(chuàng)新，勇于進(jìn)取的無(wú)限潛力，上海彌正氣體供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來(lái)，回首過(guò)去，我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績(jī)而沾沾自喜，相反的是面對(duì)競(jìng)爭(zhēng)越來(lái)越激烈的市場(chǎng)氛圍，我們更要明確自己的不足，做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備，要不畏困難，激流勇進(jìn)，以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家，共同走向輝煌回來(lái)！